'초미세 3차원 나노 구조체' 대면적 제조 기술개발 > NEWS

 나노종합기술원·KAIST 공동 연구팀 성과
 
나노종합기술원과 한국과학기술원(KAIST) 공동 연구팀이 10㎚(나노미터)급 초미세 3차원 나노 구조체를 큰 면적으로 제작할 수 있는 차세대 원천기술을 개발했다고 5일 밝혔다.
이 기술은 자기조립 물질과 플라스마 이온반응을 이용한다. 플라스마 이온반응 시 나타나는 '2차 스퍼터링(secondary sputtering)' 현상을 활용하는 게 기본 개념이다.
2차 스퍼터링 현상은 플라스마 상태에서 이온 입자를 가속해 목적기판에 물리적 충격을 줬을 때, 입자가 임의의 각도로 이탈해 나가는 상태라고 연구팀은 설명했다.

1억원에 미치지 않는 초기 비용과 12시간 이하의 짧은 공정시간으로 나노 구조체 제작이 가능하다. 기존 기술은 수백억원을 호가하는 비싼 형상제작 장비를 필요로 했다.

반도체, 디스플레이, 전자소자 등 분야에 신기술을 적용하면 가격 경쟁력까지 갖출 수 있을 것으로 연구팀은 판단했다.

연구는 나노종합기술원 전환진 박사와 KAIST 정희태·김상욱·신종화 교수팀이 주도했다. KAIST 김주영 박사와 정우빈 박사과정생, 한국과학기술연구원 정현수 박사, 한국화학연구원 김윤호 박사, 한국전자통신연구원 신동옥 박사가 연구에 참여했다.

나노종합기술원 전환진 박사는 "미세 나노 구조 제작 기술은 학계와 산업계의 숙원이었는데, 이 기술은 천문학적인 비용의 장비가 필요 없는 데다 반도체나 디스플레이 분야 등에 그대로 적용할 수 있다"며 "미래 전자제품 원천기술로서 다각적으로 활용될 것으로 기대한다"고 말했다.

연구는 미래창조과학부가 추진하는 'GRDC(해외우수연구기관 유치사업)' 지원으로 이뤄졌다. 논문은 세계적인 학술지 '어드밴스드 머티리얼스(Advanced Materials)' 온라인판 8월 4일 자에 실렸다.<연합뉴스>